圖文詳情
產(chǎn)品特點(diǎn)：
SUS304不銹鋼電解拋光腔體；
前開門腔體設(shè)計(jì)，帶觀察窗；
4英寸襯底載盤，可升級(jí)至12英寸；
3支磁控濺射靶槍，可拓展至8支；
1600l/sec渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵；
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及500-1000W DC直流電源；
共濺射或反應(yīng)濺射；
PLC+PC自動(dòng)控制系統(tǒng)。
應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體器件
微納米加工技術(shù)
氧化物金屬鍍膜
超導(dǎo)鍍膜，磁學(xué)鍍膜
選配項(xiàng)：
向上、向下或側(cè)面濺射；
RF、DC和脈沖DC濺射；
樣品可旋轉(zhuǎn)并加熱至300℃、500℃或800℃；
高真空泵可選擇分子泵、低溫泵或擴(kuò)散泵；
全自動(dòng)壓力控制系統(tǒng)；
高精度膜厚監(jiān)測(cè)儀；
基于襯底加偏壓或離子源的基片預(yù)清洗；
高真空loadlock。
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