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基片尺寸最大8英寸;
基片臺可加熱,旋轉,偏壓;
單靶槍設計;
靶槍可升降,升級強磁靶頭;
自動壓力控制系統(tǒng);
可配備離子束輔助沉積;
占地面積小,靈活方便。
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